Entegris气体过滤器对于半导体工厂中的污染控制至关重要

随着特征尺寸的减小和 3D 结构的激增，半导体工厂中的污染控制对于实现可接受的器件良率至关重要。在整个工艺生命周期中对空气、散装气体或特种气体以及化学品进行高级过滤和净化，已成为减少缺陷和提高产量的关键方面。

颗粒、凝胶、金属和空气中的分子污染物 (AMC) 都会以不同的方式影响产品、工艺和设备，从而导致产品出现缺陷。液体过滤器和净化器提供了一道防线，以防止引起缺陷的污染物到达晶圆和基板。无论是使用点还是批量交付，在腔室或晶圆上，在洁净室还是在工具上，Entegris在提供先进的液体、气体和空气净化和过滤解决方案方面有着悠久的历史，以满足您在任何情况下的生产力和可靠性要求技术节点。

半导体制造商面临的气体纯度挑战的解决方案

消除工艺中的污染物首先要全面了解气体输送路径并识别威胁，从而使您能够实施正确的解决方案来减少晶圆缺陷。

气体过滤对于提供所需的纯度至关重要，对其有效寿命有一系列看法。每个气体和工艺步骤都有影响选择优化解决方案的独特条件。

Entegris气体过滤器系列：

镍、不锈钢、Hastelloy ®和 PTFE 过滤技术。

Entegris 超纯气体过滤产品为超纯气体应用提供 0.0015 微米颗粒过滤。Wafergard ®气体过滤器可实现更高的工艺气体吞吐量，同时减少整个气体箱的占地面积。

Wafergard® GN 气体过滤器

这款易于使用、重量轻的气体过滤枪专为半导体应用中压缩气体的 POU 过滤而设计。

● PTFE 膜可消除颗粒脱落，在气体应用中的颗粒保留率为 0.003 μm

● 提供 10 cm 2的有效过滤面积，实现高流速和更有效的晶圆清洗

● 滤芯经过 100% 预测试和预冲洗，以确保性能可靠

● 白色尼龙结构在酸和大多数溶剂应用中耐腐蚀

Wafergard® MAX HT 在线气体过滤器

用于高温、超纯气体应用的卓越微粒过滤。

● 专为高达 200°C (392°F) 的高温 TEOS 和高 k 应用而设计 

● 整体设计（148 mm [5.82"]）是类似过滤器的直接替代品

● 紧凑的尺寸适合许多现有的输送系统，并提供设计灵活性和多功能性

● 特殊烘烤可实现快速气体输送启动

● 低压差提供稳定和改进的材料输送

Wafergard® II SF 半在线气体过滤器

当首选所有不锈钢结构时，Wafergard® II SF 半直列式气体过滤器是高纯度气体系统的首选过滤器。

● 最先进的外壳组件通过最小化焊接面积消除了排气

● 全金属结构非常适合高温和动态压力应用

● 其紧凑的尺寸和灵活的配件选择提供了极高的设计效率并最大限度地降低了工程成本

Wafergard® III NF-750 在线气体过滤器

为流量高达 750 slpm 的超纯气体系统提供卓越的微粒过滤

● 可用的最清洁、最高效的全金属过滤器

● 专利镍过滤膜

● 优越的耐腐蚀性

● 高温和动态压力应用的理想选择

● 通常用于高达 750 slpm 的流量

Wafergard® SL 1.125" C-Seal 气体过滤器

这些气体过滤器将业界最好的过滤器与最小的表面贴装设计相结合，提供终极工艺保护，同时显着减少气体面板上的占地面积。

● 专为满足 1.125" C-seal 表面贴装接口而设计，最大限度地减少放气，提高耐腐蚀性，并提供出色的化学兼容性

● 减少的总流通面积提供了卓越的下游清洁度

● 洁净室制造和包装

● 提供镍膜或不锈钢膜 

Wafergard® IV HF 迷你在线气体过滤器

这些合金 22 膜过滤器为超纯和腐蚀性气体系统提供卓越的颗粒过滤。

● 合金 22 膜（通常称为 HASTELLOY ® C-22 ®合金）在我们的 Wafergard ®产品系列中提供最惰性和反应性气体兼容性

● 可过滤一氧化碳、溴化氢、氯气等腐蚀性气体

● 干净的全金属结构非常适合高温和动态压力应用

● 最先进的外壳组件通过最小化焊接区域来消除除气